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半导体酸碱废气净化工艺方法

2023-10-09 06:14:02  361次浏览 次浏览
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半导体主要成分:半导体行业废气主要为有机废气和酸碱废气两类。有机类有:非甲烷总烃、氮氧化物、二氧化硫等;酸碱类有:氨气、硫酸雾、氟化物、氯化物、氯气等。

半导体酸碱性废气:

工艺流程: 酸/碱性废气→酸/碱式洗涤塔→离心风机→烟囱(达标排放)

半导体有机类废气VOCs

收集废气→沸石转轮吸附装置→TO直燃式焚烧炉

同时整套装置安q、可靠、无任何二次污染。

由于半导体行业对操作室清洁度要求,通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气,因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。

半导体酸碱废气净化工艺方法

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